中頻磁控濺射電源工作于二級高頻變換模式，交流正弦輸出電源輸出頻率設為典型的中頻濺射電源以兩個濺射靶作

為負載，兩個靶交替工作，因此濺射靶一個濺射周期內一半以上

的時間為反向電壓截止濺射，使靶材表面積累電荷有的到充分泄

放時，有利于抑制靶材弧光放電及表面中毒，特別適用于反應膜

層環境使用。