偏壓電源(Bias power supply )是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相沉積設備中一個重要組件，在鍍膜工藝流程中為工件提供負(或正)偏壓。

作用

1)提高真空等離子體內帶電粒子的能量，轟擊清洗所鍍工件表面，使工件表面經受高能粒子撞擊后得到嶄新的表層，從而提高后續沉積膜層的結合力

2)提高并控制真空等離子體內帶電粒子的能量，提高膜層與工件基體結合力

3)靠不同的電壓輸出極性或方式改變沉積規則，調整膜層顏色

4)克服偏壓電源工作于真空等離子體環境中，由高電壓引起的陰極弧光放電燒傷工件